北京利承創(chuàng)欣金屬材料科技有限公司（簡(jiǎn)稱：利承創(chuàng)欣）創(chuàng)建于2015年，位于北京中關(guān)村，廠房占地2500平米，是由國(guó)家科技部牽頭、多家業(yè)內(nèi)企業(yè)控股，集鍍膜材料、磁控濺射靶材研發(fā)、生產(chǎn)、銷售等為一體的綜合性鍍膜材料企業(yè)。
利承創(chuàng)欣主要從事研發(fā)生產(chǎn)光通訊、LOW-E半導(dǎo)體、平板顯示觸摸屏、裝飾鍍膜、工具鍍膜、光伏光熱、半導(dǎo)體、LED等鍍膜材料。利承創(chuàng)欣將成熟的生產(chǎn)工藝，嚴(yán)格的生產(chǎn)規(guī)范，精良的生產(chǎn)設(shè)備相結(jié)合，在昌平區(qū)建立了研發(fā)生產(chǎn)基地。
利承創(chuàng)欣已通過(guò)ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證、ISO14001環(huán)境體系認(rèn)證及歐盟CE認(rèn)證，產(chǎn)品出口日本、美國(guó)、德國(guó)、韓國(guó)等國(guó)家，并與全球知名光電技術(shù)企業(yè)、中科院及軍工企業(yè)建立長(zhǎng)期的生產(chǎn)工藝、生產(chǎn)技術(shù)、產(chǎn)品質(zhì)量控制戰(zhàn)略合作伙伴關(guān)系，是目前國(guó)內(nèi)鍍膜材料行業(yè)設(shè)備*先進(jìn)、技術(shù)水平*高、產(chǎn)品系列多元化的龍頭企業(yè)之一。
利承創(chuàng)欣將秉承創(chuàng)新發(fā)展至先、客戶服務(wù)至誠(chéng)的使命，知崇禮卑、止于至善致力于生產(chǎn)符合國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的鍍膜材料。
我公司主要產(chǎn)品如下：
高純?yōu)R射靶材（規(guī)格按要求定做 純度3-6N）
高純金屬濺射靶材
鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鐵靶Fe、鋅靶Zn、錫靶Sn、鎂靶Mg、鈷靶Co、鎳靶Ni、鈦靶Ti、金靶Au、銀靶Ag、鉑靶Pt、錸靶Re、釕靶Ru、鈀靶Pd、銠靶Rh、銥靶Ir、銦靶In、釩靶V、鎘靶Cd、鎢靶W、鉬靶Mo、鉭靶Ta、鈮靶Nb、鋯靶Zr、鉿靶Hf、鍺靶Ge、硅靶Si、錳靶Mn、鉍靶Bi、硒靶Se、硼靶B、鈣靶Ca
合金濺射靶材 （規(guī)格按要求定做）
鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、鎳鈷Ni-Co、鎳鐵Ni-Fe、鎳鉻Ni-Cr、鎳鋯Ni-Zr、鎳鋁Ni-Al、鎳銅Ni-Cu、鎳釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe
高純金屬材料/真空鍍膜材料 (純度99.9-99.9999%)
高純金屬材料/蒸發(fā)鍍膜材料（粉末/顆粒/柱/塊/絲/片 可按要求定做 純度3-6N）
金Au：高純金粒,高純金絲,高純金片,高純金粉,高純金箔,金電極,金棒,金蒸發(fā)料
銀Ag：高純銀粒,高純銀絲,高純銀片,高純銀粉,高純銀箔,銀電極,銀棒,銀蒸發(fā)料
鉑Pt：高純鉑粒,高純鉑絲,高純鉑片,高純鉑粉,高純鉑箔,鉑電極,鉑電偶絲,鉑蒸發(fā)料
鈀Pd: 高純鈀粒,高純鈀絲,高純鈀片,高純鈀粉,鈀電極,鈀箔,鈀蒸發(fā)料
錸Re：高純錸粒,高純錸片,高純錸粉,錸蒸發(fā)料
銠Rh：高純銠粒,高純銠絲,高純銠粉,銠電極,銠蒸發(fā)料
釕Ru：高純釕粒,高純釕絲,高純釕片,高純釕粉,釕電極,釕蒸發(fā)料
銥Ir：高純銥粒,高純銥絲,高純銥片,高純銥粉,銥電極,銥蒸發(fā)料
鋁Al：高純鋁粒,高純鋁絲,高純鋁片,高純鋁箔,高純鋁粉,高純鋁棒,高純鋁塊,鋁電極,鋁蒸發(fā)料
銅Cu：高純銅粒,高純銅絲,高純銅片,高純銅箔,高純銅粉,高純銅塊,銅電極,銅蒸發(fā)料
鉻Cr：高純鉻粒,高純鉻粉,高純鉻片,高純鉻塊,高純鉻條,低氧鉻粉,鉻蒸發(fā)料
鈷Co：高純鈷粒,高純鈷粉,高純鈷片,高純鈷板,高純鈷塊,電解鈷,鈷蒸發(fā)料
鉿Hf：高純鉿粉,高純鉿粒,高純鉿絲,高純鉿片,高純鉿板,低鋯鉿粉,鉿蒸發(fā)料
鎘Cd：高純鎘粒,高純鎘粉,高純鎘絲,高純鎘管,高純鎘錠,鎘蒸發(fā)料
鎢W： 高純鎢粒,高純鎢粉,高純鎢片,高純鎢箔,高純鎢絲,鎢舟,鎢絞絲,鎢蒸發(fā)源,鎢蒸發(fā)料
鉬Mo：高純鉬粒,高純鉬片,高純鉬箔,高純鉬粉,高純鉬絲,高純鉬板,鉬舟,鉬蒸發(fā)料
硅Si：高純硅粒,高純硅片,高純硅粉,單晶硅,多晶硅,多晶硅片,硅襯底,N型硅,P型硅,本征硅,硅蒸發(fā)料
鍺Ge：高純鍺粒,高純鍺粉,高純鍺片,高純鍺棒,高純鍺塊,鍺蒸發(fā)料
錳Mn：高純錳片,高純錳粉,高純錳塊,錳蒸發(fā)料
鎂Mg：高純鎂粒,高純鎂粉,高純鎂絲,高純鎂片,高純鎂棒,高純鎂塊,鎂蒸發(fā)料
鈮Nb：高純鈮粒,高純鈮粉,高純鈮片,高純鈮箔,高純鈮絲,高純鈮板,高純鈮塊,高純鈮棒,鈮蒸發(fā)料
錫Sn：高純錫粒,高純錫球,高純錫粉,高純錫絲,高純錫片,高純錫箔,錫蒸發(fā)料
銻Sb：高純銻粒,高純銻塊,高純銻fen,高純銻錠,銻蒸發(fā)料
鋅Zn：高純鋅粒,高純鋅絲,高純鋅片,高純鋅板,高純鋅粉,鋅陽(yáng)極,鋅蒸發(fā)料
釩V ：高純釩粒,高純釩fen,高純釩片,高純釩絲,電解釩粒,釩蒸發(fā)料
鐵Fe：高純鐵粒,高純鐵粉,高純鐵片,高純鐵絲,霧化鐵粉,電解鐵粉,高純鐵板,高純鐵塊,鐵蒸發(fā)料
鈦Ti：高純鈦片,高純鈦粒,高純鈦片,高純鈦箔,高純鈦粉,高純鈦絲,海綿鈦,碘化鈦,高純鈦板,高純鈦棒,進(jìn)口鈦原料,鈦蒸發(fā)料
鋯Zr：高純鋯粉,高純鋯粒,高純鋯片,高純鋯箔,高純鋯絲,高純鋯塊,海綿鋯,碘化鋯,鋯蒸發(fā)料
碲Te：高純碲粒,高純碲塊,高純碲粉,高純碲錠,碲蒸發(fā)料
鎳Ni：高純鎳粒,高純鎳片,高純鎳箔,高純鎳粉,高純鎳絲,高純鎳柱,高純鎳板,高純鎳塊,鎳電極,鎳蒸發(fā)料
鉭Ta: 高純鉭粒,高純鉭片,高純鉭箔,高純鉭絲,高純鉭粉,高純鉭塊,鉭舟,鉭蒸發(fā)料
鎵Ga：高純鎵塊,高純鎵試劑,高純鎵錠,鎵蒸發(fā)料
鉍Bi：高純鉍粒,高純鉍塊,高純鉍粉,高純鉍錠,鉍蒸發(fā)料
銦In：高純銦絲,高純銦粒,高純銦球,高純銦片,高純銦箔,高純銦粉,銦電極,銦蒸發(fā)料
硒Se：高純硒粒,高純硒塊,高純硒片,高純硒粉,高純硒錠,硒蒸發(fā)料
鈣Ca：高純鈣粒,高純鈣粉,高純鈣棒,高純鈣蒸發(fā)料
硼B(yǎng) ：高純硼粒,高純硼塊,高純硼片,高純硼粉,硼蒸發(fā)料
La：高純鑭粒,高純鑭塊,高純鑭粉,高純鑭錠
鐠Pr：高純鐠粒,高純鐠塊,高純鐠粉,高純鐠錠
釹Nd：高純釹粒,高純釹塊,高純釹粉,高純釹錠
釓Gd：高純釓粒,高純釓塊,高純釓粉,高純釓錠
鈰Ce：高純鈰粒,高純鈰塊,高純鈰錠,高純鈰粉
鉺Er：高純鉺粒,高純餌塊,高純鉺粉,高純鉺錠
鋱Tb：高純鋱粒,高純鋱塊,高純鋱粉,高純鋱錠
鈥Ho：高純鈥粒,高純鈥塊,高純鈥粉,高純鈥錠
釔Y： 高純釔粒,高純釔塊,高純釔粉,高純釔錠
鐿Yb：高純鐿粒,高純鐿塊,高純鐿粉,高純鐿錠
銩Tm：高純銩粒,高純銩塊,高純銩粉,高純銩錠
釤Sm: 高純釤粒,高純釤塊,高純釤粉,高純釤錠
鏑Dy：高純鏑粒,高純鏑塊,高純鏑粉,高純鏑錠
镥Lu：高純镥粒,高純镥塊,高純镥粉,高純镥錠
高純氧化物/蒸發(fā)鍍膜材料 (顆粒、粉末 純度3-5N)
　　氧化鋁（Al2O3），氧化釹（Nd2O3），氧化銻（Sb2O3），五氧化二鈮（Nb2O5），氧化錫摻銻（ATO），氧化鐠（Pr6O11），鈦酸鋇（BaTiO3），鈦酸鐠（PrTiO2），氧化鉍（Bi2O3），氧化鐠（Pr2O3），二氧化鈰（CeO2），氧化釤（Sm2O3），氧化銅（CuO），氧化鈧（Sc2O3），氧化鉻（Cr2O3），二氧化硅（SiO2），氧化鏑（Dy2O3），一氧化硅（SiO），氧化鉺（Er2O3），鈦酸鍶（SrTiO3），氧化銪（Eu2O3），鋯酸鍶（SrZrO3），氧化釓（Gd2O3），五氧化二鉭（Ta2O5），氧化鎵（Ga2O3），氧化鋱（Tb4O7），氧化鍺（GeO2），氧化碲（TeO2），氧化鉿（HfO2），氧化釷（ThO2），氧化鈥（Ho2O3），氧化銩（Tm2O3），氧化銦（In2O3），二氧化鈦（TiO2），氧化銦錫化合物（ITO），一氧化鈦（TiO），氧化鐵（Fe2O3），五氧化三鈦（Ti3O5），四氧化三鐵（Fe3O4），三氧化二鈦（Ti2O3），氧化鑭（La2O3），氧化錫（SnO2），鋁酸鑭（LaAlO3），一氧化錫（SnO），鈦酸鉛（PbTiO3），三氧化鎢（WO3），鋯酸鉛（PbZrO3），五氧化二fan（V2O5），鈮酸鋁（LiNbO3），釔鋁石榴石（YAG）Y3Al5O12，氧化鋰（LiO），三氧化二鐿（Yb2O3），鉭酸鋰（LiTaO3），三氧化二釔（Y2O3），氧化鋅（ZnO），氧化镥（Lu2O3），氧化鋅摻鋁（ZnO：Al），氧化鎂（MgO），二氧化鋯（ZrO2）（未摻雜），二氧化錳（MnO2），氧化鈣穩(wěn)定二氧化鋯（ZrO2-5-15wt％CaO），鈦酸鎂（MgTiO3），氧化釔穩(wěn)定二氧化鋯（ZrO2摻雜Y2O3），氧化鉬（MoO3）。
高純氟化物/蒸發(fā)鍍膜材料 （顆粒、粉末 純度3-6N）
　　氟化鋁（AlF3），氟化鐠（PrF3），氟化鋇（BaF3），氟化鎂（MgF2），氟化鉻（CdF2），氟化釹（NdF3），氟化鈣（CaF2），氟化鈰（CeF3），氟化釤（SmF3），氟化鏑（DyF3），氟化鈉（NaF），氟化鉺（ErF3），冰晶石（Na3AlF6），氟化鉿（HfF4），氟化鍶（SrF2），氟化鉀（KF），氟化釷（ThF4），氟化鑭（LaF3），氟化釔（YF3），氟化鉛（PbF2），氟化鐿（YbF3），氟化鋰（LiF） 
其他材料/蒸發(fā)鍍膜材料 （顆粒、粉末 純度3-6N）
　　氮化鋁（AlN），鈦酸鎂（MgTiO3），鐵酸鋇（BaFeO3），氮化鈮（NbN），鈦酸鋇（BaTiO3），銻化銦（InSb），鈦酸鉍（BiTiO3），鈦酸鐠（PrTiO3），氮化硼（BN），氮化硅（Si3N4），硫化鎘（CdS），碳化硅（SiC），碲化鎘（CdTe），鈦酸鍶（SrTiO3），鍍鉻鎢條，氮化鉭（TaN），冰晶石（Na3AlF6），碳化鉭（TaC），砷化鎵（GaAs），二硼化鈦（TiB2），氮化鉿（HfN），碳化鈦（TiC），硼化鐵（FeB），氮化鈦（TiN），鋁酸鑭（LaAlO3），碲化鉛（PbTe），碳化鎢（WC），六硼化鑭（LaB6），鐵酸釔（YFe2O3），鉭酸鋰（LiTaO3），YBC，鈦酸鑭（LaTiO3），硒化鋅（ZnSe），鈮酸鋰（LiNbO3），碲化鋅（ZnTe），硫化鉛（PbS），硫化鋅（ZnS） 
高純?yōu)R射靶材（規(guī)格按要求定做 純度3-6N）
高純金屬濺射靶材
鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鐵靶Fe、鋅靶Zn、錫靶Sn、鎂靶Mg、鈷靶Co、鎳靶Ni、鈦靶Ti、金靶Au、銀靶Ag、鉑靶Pt、錸靶Re、釕靶Ru、鈀靶Pd、銠靶Rh、銥靶Ir、銦靶In、釩靶V、鎘靶Cd、鎢靶W、鉬靶Mo、鉭靶Ta、鈮靶Nb、鋯靶Zr、鉿靶Hf、鍺靶Ge、硅靶Si、錳靶Mn、鉍靶Bi、硒靶Se、硼靶B、鈣靶Ca
合金濺射靶材 （規(guī)格按要求定做）
鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、鎳鈷Ni-Co、鎳鐵Ni-Fe、鎳鉻Ni-Cr、鎳鋯Ni-Zr、鎳鋁Ni-Al、鎳銅Ni-Cu、鎳釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe
陶瓷靶材 （規(guī)格按要求定做）
ITO靶材、AZO靶材、IGZO靶材、氧化鎂靶材MgO、氧化釔靶材Y2O3、氧化鐵靶材Fe2O3、氧化鎳靶材Ni2O3、氧化鉻靶材Cr2O3、氧化鋅靶材ZnO、硫化鋅靶材ZnS、硫化鎘靶材CdS、硫化鉬靶材MoS2、二氧化硅靶材SiO2、一氧化硅靶材SiO、二氧化鋯靶材ZrO2、五氧化二鈮靶材Nb2O5、二氧化鈦靶材TiO2、二氧化鉿靶材HfO2、二硼化鈦靶材TiB2、二硼化鋯靶材ZrB2、三氧化鎢靶材WO3、三氧化二鋁靶材Al2O3、五氧化二鉭靶材Ta2O5、氟化鎂靶材MgF2、硒化鋅靶材ZnSe、氮化鋁靶材AlN、氮化硅靶材Si3N4、氮化硼靶材BN、氮化鈦靶材TiN、碳化硅靶材SiC、鈮酸鋰靶材LiNbO3、鈦酸鐠靶材PrTiO3、鈦酸鋇靶材BaTiO3、鈦酸鑭靶材LaTiO3、鈦酸鍶靶材SrTiO3等高密度陶瓷濺射靶材.
稀土靶材
釓靶Gd、釤靶Sm、碲靶Te、鏑靶Dy、鈰靶Ce、釔靶Y、鑭靶La、銻靶Sb、鐿靶Yb、鉺靶Er、鋱靶Tb、鈥靶Ho、銩靶Tm、釹靶Nd、鐠靶Pr、镥靶Lu
稀土陶瓷靶
氧化鑭靶La2O3、氧化鈰靶CeO2、氧化鐠靶Pr6O11、氧化釹Nd2O3、氧化釤靶Sm2O3、氧化釹靶Nd2O3、氧化鉺Er2O3靶、氧化銩靶Tm2O3、氧化鈥靶Ho2O3、氧化銪靶Eu2O3等稀土陶瓷靶材
純度：99.9%—99.9999%。尺寸：圓形靶材常規(guī)為直徑2英寸，直徑3英寸，厚度為3-10mm,或者根據(jù)客戶要求加工規(guī)格尺寸。方形靶材可根據(jù)要求進(jìn)行加工。