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高純鉬靶材

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發(fā)布時(shí)間:2011-12-2 8:55:47

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鎢鉬靶材及離子注入用磨光產(chǎn)品
鎢鉬靶材及離子注入用磨光產(chǎn)品因技術(shù)優(yōu)越、產(chǎn)業(yè)化研究,生產(chǎn)規(guī)模、產(chǎn)能不斷擴(kuò)大,品質(zhì)體系健全、完善。產(chǎn)品現(xiàn)銷售到韓國、日本等地區(qū),均得到用戶的肯定。可生產(chǎn)的TFT-LCD 和太陽能薄膜電池濺射靶材用鉬板的規(guī)格範(fàn)圍:6~25×100~1500×≤3000 mm; 產(chǎn)品規(guī)格如:9.5×160×925mm;15×133×778mm;19×200×2700mm;10×885×960mm;14×1400×1700mm;16×1431×1650mm。


濺射靶材用于磁控濺射鍍膜,濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。

在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個(gè)正交磁場和電場,在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣),在電場的作用下,Ar氣電離成正離子和電子, 靶上加有一定的負(fù)高壓,從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大,在陰極附近形成高密度的等離子體,Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面, 以很高的速度轟擊靶面,使靶上被濺射出來的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。

濺射鍍膜的主要應(yīng)用于:平板顯示器、鍍膜玻璃工業(yè)(主要包括建筑玻璃、汽車玻璃、光學(xué)薄膜玻璃等)、薄膜太陽能、 表面工程(裝飾&工具)、(磁、光)記錄介質(zhì)、微電子、汽車車燈、裝飾鍍膜等。
可以根據(jù)用戶的要求提供以下尺寸的鉬濺射靶材:

板靶材: 單重:≤200kg/pc, 純度:≥99.97%
管靶材: 長度:≤Φ165mmΧ1000mm ,純度:≥99.97%

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