手機(jī)網(wǎng)站
公司最新產(chǎn)品
聯(lián)系方式
- 主營(yíng)行業(yè): 有色金屬粉末
- 經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)型
- 經(jīng)營(yíng)性質(zhì):國(guó)有企業(yè)
- 地區(qū):北京
- 友情鏈接:粉末冶金
鎳鉻合金濺射靶材—鎳釩合金濺射靶材—硅鋁合金濺射靶材—鋁硅合金濺射靶材
產(chǎn)品型號(hào):
產(chǎn)品價(jià)格:
發(fā)布時(shí)間:2018-5-3 10:00:19
在線咨詢
產(chǎn)品詳情:
北京中金研新材料科技有限公司(CNM)是坐落于中關(guān)村科技園區(qū)的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè),由業(yè)內(nèi)龍頭企業(yè)為發(fā)起人,整合了國(guó)內(nèi)科研院校的優(yōu)勢(shì)資源,吸收國(guó)內(nèi)外先進(jìn)科學(xué)的管理經(jīng)驗(yàn)而成立。人才儲(chǔ)備豐富,資金力量雄厚,通過ISO9001:2008質(zhì)量體系及ISO14001:2004環(huán)境管理體系認(rèn)證,具有自主進(jìn)出口權(quán)。
北京中金研新材料科技有限公司在各種高純材料、鍍膜材料、濺射靶材、功能材料及應(yīng)用技術(shù)研究開發(fā)方面,有著得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)。以堅(jiān)強(qiáng)的技術(shù)為基礎(chǔ),我公司開發(fā)了多個(gè)系列的新材料,這些產(chǎn)品牌號(hào)約百余種。已在航空航天、軍工、信息電子、真空鍍膜、冶金、功能材料、生物醫(yī)藥、新能源等行業(yè)獲得廣泛應(yīng)用。目前擁有鍍膜材料、濺射靶材、高純材料、高純合金等多條生產(chǎn)線,生產(chǎn)設(shè)備先進(jìn),工藝完善。
目前,我們的客戶遍及美國(guó).德國(guó).日本.韓國(guó).臺(tái)灣.香港等十幾個(gè)國(guó)家和地區(qū),包括國(guó)內(nèi)外科研軍工,上市公司等知名企事業(yè)在內(nèi)的六百余家單位。
北京中金研新材料科技有限公司下設(shè)鍍膜材料、濺射靶材、金屬粉末、高純材料等事業(yè)部,熱烈歡迎新老客戶垂詢。我公司秉承以誠(chéng)信為本,科技為本的理念,致力打造成金屬新材料行業(yè)的領(lǐng)頭羊。
主要產(chǎn)品:
磁控濺射靶材
(可為電子與半導(dǎo)體,平面顯示行業(yè),建筑與汽車玻璃行業(yè),薄膜太陽(yáng)能電池行業(yè),磁存儲(chǔ)行業(yè),工具行業(yè),裝飾行業(yè)提供高品質(zhì)靶材)
高純單質(zhì)金屬濺射靶材(3N-6N):鋁靶材Al,鉻靶材Cr,銅靶材Cu,鎳靶材Ni,硅靶材Si,鍺靶材Ge,鈮靶材Nb,鈦鈀材Ti,銦靶材In,銀靶材Ag,錫靶材Sn,石墨靶材C,鉭靶材Ta,鉬靶材Mo,金靶材Au,鉿靶材Hf,錳靶材Mn,鋯靶材Zr,鎂靶材Mg,鋅靶材Zn,鉛靶材Pb,銥靶材Ir,釔靶材Y,鈰靶材Ce,鑭靶材La,鐿靶材Yb,釓靶材Gd,鉑靶材Pt等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。
高密度陶瓷濺射靶材(3N-5N):ITO靶材、AZO靶材,IGZO靶材,氧化鎂靶材MgO、氧化釔靶材Y2O3,氧化鐵靶材Fe2O3,氧化鎳靶材Ni2O3,氧化鉻靶材Cr2O3、氧化鋅靶材ZnO、硫化鋅靶材ZnS、硫化鎘靶材CdS,硫化鉬靶材MoS2,二氧化硅靶材SiO2、一氧化硅靶材SiO、二氧化鋯靶材ZrO2、五氧化二鈮靶材Nb2O5、二氧化鈦靶材TiO2,二氧化鉿靶材HfO2,二硼化鈦靶材TiB2,二硼化鋯靶材ZrB2,三氧化鎢靶材WO3,三氧化二鋁靶材Al2O3,五氧化二鉭靶材Ta2O5、氟化鎂靶材MgF2、硒化鋅靶材ZnSe、氮化鋁靶材AlN,氮化硅靶材Si3N4,氮化硼靶材BN,氮化鈦靶材TiN,碳化硅靶材SiC,鈮酸鋰靶材、鈦酸鐠靶材、鈦酸鋇靶材、鈦酸鑭靶材等高密度陶瓷濺射靶材.
備注:CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界*先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝—惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù),相對(duì)密度大于95-99%?梢蕴峁┌胁牡慕饘倩幚砑敖壎ǚ⻊(wù)。
北京中金研新材料科技有限公司(CNM)是坐落于中關(guān)村科技園區(qū)的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè),由業(yè)內(nèi)龍頭企業(yè)為發(fā)起人,整合了國(guó)內(nèi)科研院校的優(yōu)勢(shì)資源,吸收國(guó)內(nèi)外先進(jìn)科學(xué)的管理經(jīng)驗(yàn)而成立。人才儲(chǔ)備豐富,資金力量雄厚,通過ISO9001:2008質(zhì)量體系及ISO14001:2004環(huán)境管理體系認(rèn)證,具有自主進(jìn)出口權(quán)。
北京中金研新材料科技有限公司在各種高純材料、鍍膜材料、濺射靶材、功能材料及應(yīng)用技術(shù)研究開發(fā)方面,有著得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)。以堅(jiān)強(qiáng)的技術(shù)為基礎(chǔ),我公司開發(fā)了多個(gè)系列的新材料,這些產(chǎn)品牌號(hào)約百余種。已在航空航天、軍工、信息電子、真空鍍膜、冶金、功能材料、生物醫(yī)藥、新能源等行業(yè)獲得廣泛應(yīng)用。目前擁有鍍膜材料、濺射靶材、高純材料、高純合金等多條生產(chǎn)線,生產(chǎn)設(shè)備先進(jìn),工藝完善。
目前,我們的客戶遍及美國(guó).德國(guó).日本.韓國(guó).臺(tái)灣.香港等十幾個(gè)國(guó)家和地區(qū),包括國(guó)內(nèi)外科研軍工,上市公司等知名企事業(yè)在內(nèi)的六百余家單位。
北京中金研新材料科技有限公司下設(shè)鍍膜材料、濺射靶材、金屬粉末、高純材料等事業(yè)部,熱烈歡迎新老客戶垂詢。我公司秉承以誠(chéng)信為本,科技為本的理念,致力打造成金屬新材料行業(yè)的領(lǐng)頭羊。
磁控濺射靶材
(可為電子與半導(dǎo)體,平面顯示行業(yè),建筑與汽車玻璃行業(yè),薄膜太陽(yáng)能電池行業(yè),磁存儲(chǔ)行業(yè),工具行業(yè),裝飾行業(yè)提供高品質(zhì)靶材)
高純單質(zhì)金屬濺射靶材(3N-6N):鋁靶材,Al靶材,鉻靶材,Cr靶材,銅靶材,Cu靶材,鎳靶材,Ni靶材,硅靶材,S靶材,鍺靶材,Ge靶材,鈮靶材,Nb靶材,鈦鈀材,Ti靶材,銦靶材,In靶材,銀靶材,Ag靶材,錫靶材,Sn靶材,石墨靶材,C靶材,鉭靶材,Ta靶材,鉬靶材,Mo靶材,金靶材,Au靶材,鉿靶材,Hf靶材,錳靶材,Mn靶材,鋯靶材,Zr靶材,鎂靶材,Mg靶材,鋅靶材,Zn靶材,鉛靶材,Pb靶材,銥靶材,Ir靶材,釔靶材,Y靶材,鈰靶材,Ce靶材,鑭靶材,La靶材,鐿靶材,Yb靶材,釓靶材,Gd靶材,鉑靶材,Pt靶材等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。
高密度陶瓷濺射靶材(3N-5N):ITO靶材、AZO靶材,IGZO靶材,氧化鎂靶材,MgO靶材、氧化釔靶材,Y2O3靶材,氧化鐵靶材,F(xiàn)e2O3靶材,氧化鎳靶材,Ni2O3靶材,氧化鉻靶材,Cr2O3靶材、氧化鋅靶材,ZnO靶材、硫化鋅靶材,ZnS靶材、硫化鎘靶材,CdS靶材,硫化鉬靶材,MoS2靶材,二氧化硅靶材,SiO2靶材、一氧化硅靶材,SiO靶材、二氧化鋯靶材,ZrO2靶材、五氧化二鈮靶材,Nb2O5靶材、二氧化鈦靶材,TiO2靶材,二氧化鉿靶材,HfO2靶材,二硼化鈦靶材,TiB2靶材,二硼化鋯靶材,ZrB2靶材,三氧化鎢靶材,WO3靶材,三氧化二鋁靶材,Al2O3靶材,五氧化二鉭靶材,Ta2O5靶材、氟化鎂靶材,MgF2靶材、硒化鋅靶材,ZnSe靶材、氮化鋁靶材,AlN靶材,氮化硅靶材,Si3N4靶材,氮化硼靶材,BN靶材,氮化鈦靶材,TiN靶材,碳化硅靶材,SiC靶材,鈮酸鋰靶材、鈦酸鐠靶材、鈦酸鋇靶材、鈦酸鑭靶材等高密度陶瓷濺射靶材.
備注:CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界*先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝—惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù),相對(duì)密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。
高純合金濺射靶材:鎳釩合金靶材,Ni-V靶材,鎳鉻合金靶材,Ni-Cr靶材,鈦鋁合金靶材,Ti-Al靶材,硅鋁合金靶材,Si-Al靶材,銅銦合金靶材,Cu-In靶材,銅鎵合金靶材,Cu-Ga靶材,銅銦鎵合金靶材,Cu-In –Ga靶材,銅銦鎵硒靶材,Cu-In –Ga-Se靶材,不銹鋼靶材,鋅鋁合金靶材,Zn-Al靶材,鎢鈦靶材,W-Ti靶材,鐵鈷靶材 ,F(xiàn)e-Co靶材,白銅靶材等高純合金濺射靶材。
備注:CNM生產(chǎn)的高純合金濺射靶材:晶粒度小150-60um,相對(duì)密度高(99-99.9%),純度高(99.9-99.999%)?梢蕴峁┌胁牡慕饘倩幚砑敖壎ǚ⻊(wù)。
真空鍍膜材料
(鍍制:復(fù)合膜,彩色膜,增透膜,透紫外膜,氣敏傳感器膜,高溫介質(zhì)膜,光學(xué)膜,激光裝置濾光片,保護(hù)膜,透明導(dǎo)電膜,變色膜,優(yōu)良的寬帶增透膜,磁性薄膜,可見光區(qū)增透膜,紅外增透膜,分光膜,多層膜,高反射膜,電阻膜,熱反射膜,冷光膜膜)
高品質(zhì)真空鍍膜材料(4N-5N):
1.氧化物:一氧化硅靶材,SiO靶材,二氧化硅靶材,SiO2靶材,二氧化鈦靶材,TiO2靶材,二氧化鋯靶材,ZrO2靶材,二氧化鉿靶材,HfO2靶材,一氧化鈦靶材,TiO靶材,五氧化三鈦靶材,Ti3O5靶材,五氧化二鈮靶材,Nb2O5靶材,五氧化二鉭,Ta2O5靶材,氧化釔靶材,Y2O3靶材等高純氧化物鍍膜材料。
2.氟化物:氟化釹靶材,NbF3靶材,氟化鋇靶材,BaF2靶材,氟化鈰靶材,CeF3靶材,氟化鎂靶材,MgF2靶材,氟化鑭靶材,LaF3靶材,氟化釔靶材YF3靶材,氟化鐿靶材,YbF3靶材,氟化鉺靶材,ErF3靶材等高純氟化物。
3.其它化合物:硫化鋅靶材,ZnS靶材,硒化鋅靶材,ZnSe靶材,氮化鈦靶材,TiN靶材,碳化硅靶材,SiC靶材,鈦酸鑭靶材,LaTiO3靶材,鈦酸鋇靶材,BaTiO3靶材,鈦酸鍶靶材,SrTiO3靶材,鈦酸鐠靶材,PrTiO3靶材,硫化鎘靶材,CdS靶材等真空鍍膜材料。
4.金屬鍍膜材料:高純鋁靶材,Al靶材,高純銅靶材,Cu靶材,高純鈦靶材,Ti靶材,高純硅靶材,Si靶材,高純金靶材,Au靶材,高純銀靶材,Ag靶材,高純銦靶材,In靶材,高純鎂靶材,Mg靶材,高純鋅靶材,Zn靶材,高純鉑靶材,Pt靶材,高純鍺靶材,Ge靶材,高純鎳靶材,Ni靶材,高純金靶材,Au靶材,金鍺合金靶材,AuGe靶材,金鎳合金靶材,AuNi靶材,鎳鉻合金靶材,NiCr靶材,鈦鋁合金靶材,TiAl靶材,銅銦鎵合金靶材,CuInGa靶材,銅銦鎵硒合金靶材,CuInGaSe靶材,鋅鋁合金靶材,ZnAl靶材,鋁硅合
金靶材,AlSi靶材等金屬鍍膜材料。
備注:CNM生產(chǎn)的真空鍍膜材料均通過SGS認(rèn)證,純度高,濺點(diǎn)少,放氣量小,薄膜均勻,附著力強(qiáng),抗腐蝕性強(qiáng),顏色均勻等優(yōu)點(diǎn)。
鄭重聲明:以上信息由企業(yè)自行發(fā)布,該企業(yè)負(fù)責(zé)信息內(nèi)容的完整性、真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性。本網(wǎng)站對(duì)此不承擔(dān)任何責(zé)任。